纳米二氧化硅抛光粉
晶瑞新材料 甘先生 18620162680,微信:gzjr88
我公司系列二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料,经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀,分散性好,切削力好,镜面效果好的抛光粉,广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光,
抛光范围:硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟,精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点:具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如:硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
技术指标:
型号 |
外观 |
粒径 |
纯度 |
应用 |
VK-SP20F |
白色粉末 |
20nm |
99.8% |
精密抛光 |
VK-SP50F |
白色粉末 |
50nm |
99.8% |
精密抛光 |
VK-SP100F |
白色粉末 |
100nm |
99.8% |
精密抛光 |
我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好,粘度低,抛光亮度高,光泽细腻,可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 可以做光学玻璃抛光,玻璃水钻抛光,宝石抛光,金属抛光,石材抛光等精密抛光。
用量
推荐用量为8~20%,调成浆料再进行抛光。使用者应根据不同体系经过试验决定最佳添加量
储藏:常温密闭储藏。
包装:10公斤/袋。