光催化除臭装置特点： 1、除臭效率高：能高效去除硫化氢、氨气、硫醇类、挥发性有机物（VOC）、无机物等各种恶臭气体，脱臭效率 高可达99%以上。 2、应用广泛：广泛应用于制药、农药、橡胶、石化、污水厂等各种需要除臭场所。 3、适应性强：可适应高、低浓度，大气量，不同恶臭气体物质的脱臭净化处理，可每天24小时连续工作，运行稳定可靠。 4、运行成本低，无需专人管理和日常维护，只需作定期检查。 5、本设备能耗低，设备风阻低,可节约排风动力能耗。 UV光催化净化除臭设备适用范围： 牛皮纸浆、炼油、炼焦、石化、煤气、粪便处理、制药、农药、合成树脂、橡胶、垃圾处理、污水处理、皮革加工、化肥厂等产生的硫化氢、氨、硫醇类、苯乙烯等恶臭气体。 光催化处理化工废气、甲硫醇气体、烤漆房气体处理、甲苯类气体尾气处理、原料药厂尾气处理、家具厂烤漆废气都有较好的效果。

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、设备用途介绍：本产品主要用于处理工业废气中的各种有毒有害气体，裂解恶臭气体如：氨、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、非甲烷总烃、甲醛、芳香烃、硫醚、VOC类，苯、甲苯、二甲苯、吲哚、硝基的分子键，使呈游离状态的污染物分子与臭氧氧化结合成小分子无害或低害的化合物，如CO2、H2O等。 二、设备技术介绍：2-1：UV紫外线——促进列解由于半导体的光吸收阈值与带隙具有式K=1240/Eg(eV)的关系,因此常用的宽带隙半导体的吸收波长阈值大都在紫外区域。当光子能量高于半导体吸收阈值的光照射半导体时,半导体的价带电子发生带间跃迁,即从价带跃迁到导带,从而产生光生电子(e-)和空穴(h+)。此时吸附在纳米颗粒表面的溶解氧俘获电子形成超氧负离子,而空穴将吸附在催化剂表面的氢氧根离子和水氧化成氢氧自由基。而超氧负离子和氢氧自由基具有很强的氧化性,能将 大多数的有机物氧化至 终产物CO2和H2O,甚至对 些无机物也彻底分解。2-2：172微波——内部穿透发热，促进拆分分子结构172光波利用紫外光照射有机物表面，172波长的紫外光被物体表面吸收后，有机物分子结构的DNA核酸产生大量的热量，分子链吸收光波涨大断裂，而大气中的氧气在吸收了波长为172nm的紫外光子后氧分子的原子氧 其活泼，这些原子氧会与被切断的有机物原子结合，并将之游离成的氧能基（如-OH，-CHO，-COOH），促进分子的再次新组合。2-3： 后通过足量的臭氧进行氧化——生成二氧化碳和水产品技术原理：产品 利于超强172微波对有机废或无机废气进行快速列解分裂打短，促进有害气体分子对高能UV紫外线光束的吸收，UV光束裂解恶臭气体中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），由于有 部分有机物质分子结构是环状多链式的非常稳定，未打断分子结构的这 部物质再 次通低温超高压电击电解达到分子分裂，在分子分裂后由于设备高能185臭氧光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生大量臭氧。UV+172微波+电离+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有 强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有 强的清除效果。 后通过臭氧发生器制造足够的氧离子对废气进行氧化，达到让废气生成二氧化碳和水的效果。由于臭氧对有机物具有 强的氧化作用，对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果http://www.sdsthb.cn。咨询热线：15764146726